중요성: 인텔의 최신 제조 노드인 18A가 수율 문제를 극복하고 안정적인 대량 생산 단계에 진입했다고 블루핀 리서치 파트너스가 보고서를 통해 밝혔습니다. 18A와 같이 중요한 공정의 경우, 수율 문제를 해결하고 안정적인 생산 라인을 가동하는 단계로의 전환은 인텔에게 중요한 이정표입니다.
블루핀은 인텔이 지난 몇 달 동안 18A 공정을 괴롭혔던 수율 문제를 해결하여 제조 및 경제적 관점에서 최신 노드의 대량 생산을 지속 가능하게 만들었다고 분석했습니다. 일반적으로 성숙한 노드에서 불량 밀도는 D0=0.1~D0=0.2 범위에 있습니다. 보고서는 인텔의 18A 공정이 수개월간의 대량 생산을 통해 이 범위의 하단에 도달했을 가능성이 높다고 시사합니다.
인텔은 작년 말 18A 공정의 수율이 매달 약 7%씩 개선되고 있다고 밝혔으며, 최근의 개선세는 이러한 추세와 일치하는 것으로 보입니다. 인텔은 첫 번째 18A 제품인 팬서 레이크 프로세서를 준비하고 출시하면서 이러한 개선세를 이어갔습니다. 수개월간의 대량 생산 끝에 지속적인 공정 개선을 통해 18A 노드는 더욱 안정적인 상태에 도달했습니다.
현재 18A 생산은 애리조나주 피닉스의 Fab 52와 오리건주 힐스버러의 또 다른 공장, 두 곳에 집중되어 있습니다. 이 두 공장에서 월 약 3만 장의 웨이퍼를 생산하고 있습니다. 현재 이 생산량은 팬서 레이크(Panther Lake) 생산을 포함한 인텔의 자체 수요를 충족하기에 충분하지만, 더 많은 제품이 18A로 전환됨에 따라 생산 능력 확장이 필요할 것입니다. 현재 인텔은 제조 공정을 지속적으로 개선하고 추가 생산 능력 확보를 계획하는 동시에 18A 노드를 자사 제품에 집중하고 있습니다.
인텔은 오리건주 D1X 공장에서 18A-P 공정의 시범 생산을 시작했습니다. 기존 18A 공정의 진화된 형태인 18A-P는 완전한 인증을 거치면 Fab 62로 이전하여 장기적인 대량 생산을 진행할 예정입니다. 관계자에 따르면, 인텔의 외부 고객 대상 파운드리 로드맵은 18A-P, 18A-PT, 그리고 추후 14A 노드에 집중될 것입니다. 18A-PT는 인텔이 파운드리 포트폴리오의 일환으로 18A-P와 함께 제공할 또 다른 변형 공정입니다.
인텔은 18A를 넘어 차세대 14A 공정에도 주목하고 있습니다. 초기 샘플 생산 결과가 유망한 것으로 나타나 인텔은 이 노드 개발에 대한 확신을 갖고 있습니다.
인텔은 D1X 공장을 14A의 초기 대량 생산 기지로 활용하고, 오하이오 공장을 두 번째 생산 기지로 사용할 계획입니다. 외부 고객을 대상으로 하는 시범 생산은 2028년에 예정되어 있으며, 이후 대량 생산은 2029년에 진행될 예정입니다. |